Solicitud número 1495922.- RESONAC
| Fecha de publicación | 27 Enero 2023 |
| Número de registro | CVE-2261560 |
| Sección | Marcas y Patentes |
| Número de Gaceta | 43.462 |
CVE 2261560 |Director: Felipe Andrés Peroti Díaz
Sitio Web: www.diarioficial.cl |Mesa Central: 600 712 0001 Email: consultas@diarioficial.cl
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DIARIO OFICIAL
DE LA REPUBLICA DE CHILE
Ministerio del Interior y Seguridad Pública VI
SECCIÓN
MARCAS, IG/DO, PATENTES DE INVENCIÓN, MODELOS Y DISEÑOS INDUSTRIALES
Núm. 43.462 | Viernes 27 de Enero de 2023 | Página 1 de 3
Marcas y Patentes
CVE 2261560
MARCA DE PRODUCTOS Y SERVICIOS
Solicitud: 1.495.922.- SHOWA DENKO K.K., JAPON.- Mixta: RESONAC.- Marca de
Productos y Servicios: Productos químicos; gas para uso industrial; iniciador de
fotopolimerización (compuestos químicos); productos químicos para fabricar pinturas; cola y
adhesivos (pegamentos) para uso industrial que no sean de papelería o uso doméstico;
preparaciones para regular el crecimiento de las plantas; fertilizantes; ácidos grasos altos; grafito
artificial; harina y almidón para uso industrial; materias plásticas (materia prima); productos
químicos para la elaboración de componentes de fragancias o cosméticos; aditivos químicos para
aceites lubricantes; resina absorbente de agua; isobutano; etileno; hidrocarburo; propileno
(propeno); metano; hidrógeno; alcohol alílico; acetato de n-propilo; acetaldehído (etanal); ácido
acético; vinil acetato; acetato de etilo; hielo seco (dióxido de carbono); dióxido de carbono
licuado; argón; helio; oxígeno; nitrógeno; n metil-2-pirrolidona; éter monometílico de
propilenglicol; acetato de éter monometílico de propilenglicol; solventes para barnices; solventes
(productos químicos) para uso en la industria electrónica; solventes removedores para
fotorresistencia (productos químicos); solventes para tarjetas de circuitos impresos (productos
químicos); preparaciones para desencolar; preparaciones para despegar y separar; productos
químicos en forma de solventes de alta pureza usados como agentes de limpieza; productos
químicos en forma de solventes de alta pureza usados como limpiadores; productos químicos
para limpieza de pantallas de cristal líquido; productos químicos para limpieza de dispositivos
electrónicos; gamma butirolactona; lactato de etilo; hexafluoroetano; tetrafluorometano;
octafluoropropano; octafluorociclobutano; trifluorometano; difluorometano; fluorometano;
amoniaco; óxido nitroso; cloro; tricloruro de boro; bromuro de hidrógeno; hexafluoruro de
azufre; trifluoruro de nitrógeno; hexafluoro-1,3-butadieno; clorato de sodio; hipoclorito de sodio;
cloro líquido; soda cáustica para uso industrial; ácido clorhídrico; cianuro de sodio; ácido
sulfúrico; glicina (ácido aminoacético); sulfato de amonio; polietileno clorado; l-diacetato de
glutamato tetrasódico; acrilonitrilo; ácido atilendinitrilotetraacético (EDTA) sal tetrasódica;
sulfato de sodio; emulsión de resinas sintéticas en bruto; resinas de poliéster insaturado en bruto;
resinas de éster vinílico en bruto; solución de polímero; hidróxido de tetrametilamonio; poli
n-vinilacetamida; resinas para materiales electrónicos; p-xilileno diamina;
tetrafluorotereftalonitrilo; tetrafluorobenzonitrilo; ácido p-aminometilbenzoico;
p-cianobencilamina; p-cianobenzaldehído; cloruro de p-cianobenzoílo; ácido p-cianobenzoico;
p-cianobenzoato de etilo; tintes fotosensibles cercanos al infrarrojo (NIR); compuestos de borato
orgánico; tiol multifuncional; monómero de isocianato; monómero de isocianato bloqueado;
compuestos de isocianato; fosfato de ascorbilo de magnesio; fosfato de ascorbilo de sodio;
fosfato trisódico de palmitato de ascorbilo; n-vinilacetamida; poliacrilato de sodio;
isoftalonitrilo; tereftalonitrilo; fosfato dl-alfa-tocoferol de sodio; tiol-butirolactona; hesperidina
de metilo; relleno de alúmina; óxidos de aluminio (alúmina); alúmina; alúmina esférica; alúmina
redondeada; cerámica extruída; cerámica de nitruro de boro sinterizada; polvo de nitruro de boro
hexagonal; óxido de titanio; preparaciones desmoldantes; polvo de grafito; disipador de carga
para litografía por haces de electrones (producto químico para su uso en litografía); polvo fino de
grafito artificial; fibras de carbono crecidas en fase de vapor; nanotubo de carbono; reactivo
estándar para análisis residual de gas para esterilización; gas condensado químico; gas
refrigerante; gas para conservar los alimentos; potenciador de adherencia de mortero; resinas
acrílicas catiónicas ultrafinas; polipropileno; agentes de revestimiento que no sean pinturas;
fullerenos; resinas poliamidas-imidas; revestimientos químicos para películas aislantes
fotosensibles; resinas acrílicas a base de agua para pintura automotriz; adhesivos conductores
para uso industrial; adhesivo conductor para fijación de pastilla; compuestos de moldeo de epoxi
para semiconductores; encapsulante de líquidos (productos químicos); productos químicos para
la fabricación de material de revestimiento de alta resistencia térmica; productos químicos para la
fabricación de compuestos de moldeo blanco para reflectores Led; productos químicos contra la
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