Decreto número 82, de 2021.- Aprueba Reglamento de la Ley Nº 19.039 de Propiedad Industrial - 9 de Mayo de 2022 - Diario Oficial de la República de Chile - Legislación - VLEX 903153397

Decreto número 82, de 2021.- Aprueba Reglamento de la Ley Nº 19.039 de Propiedad Industrial

Fecha de publicación09 Mayo 2022
Número de registroCVE-2118781
SecciónNormas Generales
EmisorMINISTERIO DE ECONOMÍA, FOMENTO Y TURISMO
Número de Gaceta43.248
CVE 2118781 |Director Interino: Jaime Sepúlveda O.
Sitio Web: www.diarioficial.cl |Mesa Central: 600 712 0001 Email: consultas@diarioficial.cl
Dirección: Dr. Torres Boonen N°511, Providencia, Santiago, Chile.
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DIARIO OFICIAL
DE LA REPUBLICA DE CHILE
Ministerio del Interior y Seguridad Pública I
SECCIÓN
LEYES, REGLAMENTOS, DECRETOS Y RESOLUCIONES DE ORDEN GENERAL
Núm. 43.248 | Lunes 9 de Mayo de 2022 | Página 1 de 18
Normas Generales
CVE 2118781
MINISTERIO DE ECONOMÍA, FOMENTO Y TURISMO
Subsecretaría de Economía y Empresas de Menor Tamaño
APRUEBA EL REGLAMENTO DE LA LEY Nº 19.039 DE PROPIEDAD INDUSTRIAL
Núm. 82.- Santiago, 29 de octubre de 2021.
Vistos:
Lo dispuesto en los artículos 32 Nº6 y 35 de la Constitución Política de la República de
Chile, cuyo texto refundido, coordinado y sistematizado fue fijado en el decreto supremo Nº100,
de 2005, del Ministerio Secretaría General de la Presidencia; en el decreto con fuerza de ley Nº3,
de 2006, del Ministerio de Economía, Fomento y Reconstrucción, que fija el texto refundido,
coordinado y sistematizado de la ley Nº19.039 de Propiedad Industrial; en la ley Nº20.254, que
crea el Instituto Nacional de Propiedad Industrial; en la ley Nº21.355, que modifica la ley
Nº19.039, de Propiedad Industrial y la ley N°20.254, que establece el Instituto Nacional de
Propiedad Industrial; en la ley Nº21.180, sobre Transformación Digital del Estado; en la ley
Nº19.880, que establece Bases de los procedimientos administrativos que rigen los actos de los
Órganos de la Administración del Estado, y en la resolución Nº7, de 2019, de la Contraloría
General de la República, que fija normas sobre exención del trámite de toma de razón.
Considerando:
1° Que, el Instituto Nacional de Propiedad Industrial, creado en virtud de la ley Nº20.254,
es un servicio público funcionalmente descentralizado, con personalidad jurídica y patrimonio
propios, de duración indefinida, sometido a la supervigilancia del Presidente de la República por
intermedio del Ministerio de Economía, Fomento y Turismo;
2º Que, el señalado Instituto es el organismo de carácter técnico y jurídico encargado de la
administración y atención de los servicios de la propiedad industrial, de conformidad a lo
dispuesto en el artículo 2º del señalado cuerpo legal;
3º Que, la ley Nº21.355, publicada en el Diario Oficial con fecha 5 de julio de 2021,
introdujo una serie de modificaciones a la ley Nº19.039, cuyo texto refundido, coordinado y
sistematizado fue fijado por el decreto con fuerza de ley Nº3, de 2006, del Ministerio de
Economía, Fomento y Reconstrucción, hoy Ministerio de Economía, Fomento y Turismo;
4º Que, en concordancia con lo anterior, el artículo séptimo transitorio de la ley Nº21.355
ordena la dictación de un reglamento para la citada ley, dentro del plazo de seis meses contados
desde su publicación, mediante decreto supremo expedido por el Ministerio de Economía,
Fomento y Turismo; mientras que el artículo octavo transitorio de esa norma legal dispone que
ésta comenzará a regir el día en que se publique dicho reglamento en el Diario Oficial;
5º Que, se procedió a identificar las disposiciones del reglamento vigente, contenido en el
decreto supremo Nº236, de 2005, del Ministerio de Economía, Fomento y Reconstrucción, que
debían actualizarse para permitir la incorporación de las modificaciones y adiciones de la ley
Nº21.355, conocida como "Ley Corta de INAPI" y, además, la adecuada implementación de la
ley Nº21.180, de Transformación Digital del Estado;
6º Que, para una adecuada regulación de la ley de Propiedad Industrial y sus
modificaciones, además de una mejor sistematización de su contenido, conveniente para su
DIARIO OFICIAL DE LA REPUBLICA DE CHILE
Núm. 43.248 Lunes 9 de Mayo de 2022 Página 2 de 18
CVE 2118781 |Director Interino: Jaime Sepúlveda O.
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Dirección: Dr. Torres Boonen N°511, Providencia, Santiago, Chile.
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ejecución, se ha resuelto derogar orgánicamente el reglamento actual de dicha ley, y dictar uno
nuevo en su reemplazo.
Decreto:
Artículo primero: Apruébase el siguiente "Reglamento de la ley Nº19.039, de Propiedad
Industrial", cuyo texto es el siguiente:
TÍTULO I
Disposiciones Generales
Artículo 1°.- El presente reglamento regula el otorgamiento y la protección de los derechos
de propiedad industrial relativos a las marcas comerciales, patentes de invención, modelos de
utilidad, dibujos y diseños industriales, esquemas de trazado o topografías de circuitos
integrados, indicaciones geográficas y denominaciones de origen.
Artículo 2°.- Para los efectos del presente reglamento, se entenderá por:
- Clasificador de Patentes de Invención: el Clasificador Internacional de Patentes,
establecido por el Arreglo de Estrasburgo del 24 de marzo de 1971 y sus posteriores
modificaciones.
- Clasificador de Marcas Comerciales: el Clasificador Internacional de Productos y
Servicios, establecido por el Arreglo de Niza del 15 de junio de 1957 y sus posteriores
modificaciones.
- Clasificador de Modelos de Utilidad: el Clasificador internacional de Patentes establecido
por el Arreglo de Estrasburgo del 24 de marzo de 1971 y sus posteriores modificaciones.
- Clasificador de Diseños Industriales: el Clasificador Internacional de Dibujos y Modelos
Industriales establecido por el Arreglo de Locarno del 8 de octubre de 1968 y sus posteriores
modificaciones.
- Equivalente técnico: elemento o medio que realiza la misma función que aquel que está
reivindicado en una invención, de la misma manera y produciendo el mismo efecto o resultado
señalado en la reivindicación.
- Estado de la técnica: todo aquel conocimiento que ha sido colocado al alcance del público
en cualquier parte del mundo, aunque sea totalmente desconocido en Chile, mediante una
publicación en forma tangible, la venta o comercialización, el uso o cualquier otro medio, antes
de la fecha de presentación de una solicitud o de la reivindicación de la prioridad de un derecho
de propiedad industrial en Chile.
- Instituto: el Instituto Nacional de Propiedad Industrial.
- Ley: la ley N°19.039 o "Ley de Propiedad Industrial" y sus modificaciones posteriores.
- Licencia no voluntaria: es la autorización que confiere la autoridad competente a un
tercero para utilizar una invención sin o en contra de la voluntad de su titular, por haberse
configurado alguna de las causales establecidas en el artículo 51 de la ley.
- Memoria descriptiva: documento mediante el cual el solicitante da a conocer en forma
clara y detallada su invención, modelo de utilidad, dibujo o diseño industrial, esquema de trazado
o topografía de circuitos integrados y, además, el estado de la técnica relacionado con dicho
derecho.
- Perito: profesional, especialista o experto cuya idoneidad lo habilita para emitir informes
técnicos.
- Pliego de reivindicaciones: es el documento que contiene el conjunto de descripciones
claras y concisas, de estructura formal, sustentadas en la memoria descriptiva, que tiene por
objeto individualizar los aspectos nuevos sobre los cuales se desea obtener protección.
- Prioridad: el mejor derecho que un peticionario pueda tener para presentar una solicitud,
por haberlo requerido con anterioridad en Chile o en el extranjero. La reivindicación de la
prioridad es el derecho que asegura, a quien tenga una solicitud en el extranjero, para presentarla
también en Chile, dentro del plazo que la ley o un tratado internacional ratificado por Chile
establezca.
- Regalía: retribución, remuneración o pago periódico que el licenciatario debe al titular de
un derecho de propiedad industrial, por la licencia de uso otorgada sobre aquél.
- Reivindicación o Cláusula: es la enunciación y delimitación de lo que en definitiva queda
protegido por una patente de invención o modelo de utilidad y cuya estructura es la siguiente:

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